[发明专利]纳米异质结构在审

专利信息
申请号: 201610502944.8 申请日: 2016-07-01
公开(公告)号: CN107564947A 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 张金;魏洋;姜开利;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084 北京市海淀区清*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种纳米异质结构。该纳米异质结构包括一第一碳纳米管,该第一碳纳米管朝一第一方向延伸;一半导体层,该半导体层的厚度为1~100纳米;一第二碳纳米管,该第二碳纳米管设置于所述半导体层的表面,使半导体层设置于第一碳纳米管和第二碳纳米管之间,该第二碳纳米管朝一第二方向延伸,第二方向和第一方向形成一夹角,该夹角大于0度小于等于90度。
搜索关键词: 纳米 结构
【主权项】:
一种纳米异质结构,其包括一第一碳纳米管,该第一碳纳米管朝一第一方向延伸;一半导体层,该半导体层的厚度为1~200纳米;一第二碳纳米管,该第二碳纳米管设置于所述半导体层的表面,使过半导体层设置于第一碳纳米管和第二碳纳米管之间,该第二碳纳米管朝一第二方向延伸,第二方向和第一方向形成一夹角,该夹角大于0度小于等于90度。
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