[发明专利]导电氧化层的沉积装置及方法有效
| 申请号： | 201610515099.8 | 申请日： | 2016-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN106319462B | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 朴完雨;吴芝瑛;黃秉檍;李政洛;崔时爀 | 申请（专利权）人： | 亚威科股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国大*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供如下的导电氧化层的沉积装置及方法，包括：第一工艺腔室，与供应第一工艺气体的第一气体供应部连接，并且具有从第一电力供应部施加DC或DC脉冲电压的第一目标及与第一微波生成部连接的第一导波管；及第二工艺腔室，与供应第二工艺气体的第二气体供应部连接，并且具有从第二电力供应部施加DC或DC脉冲电压的第二目标及与第二微波生成部连接的第二导波管。所述第一微波生成部被设定为施加可将所述第一工艺气体等离子放电的功率。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺气体 微波 导电氧化层 电力供应部 气体供应部 沉积装置 工艺腔室 脉冲电压 导波管 施加 等离子放电 | ||
【主权项】：
1.一种导电氧化层的沉积装置，其特征在于，包括：第一工艺腔室，与供应第一工艺气体的第一气体供应部连接，并且具有从第一电力供应部施加DC或DC脉冲电压的第一目标及与第一微波生成部连接的第一导波管；及第二工艺腔室，与供应第二工艺气体的第二气体供应部连接，并且具有从第二电力供应部施加DC或DC脉冲电压的第二目标及与第二微波生成部连接的第二导波管，所述第一微波生成部被设定为施加可使所述第一工艺气体的等离子放电的功率，且所述第一电力供应部被设定为，使未引起放电的第一电压施加于所述第一目标，所述第二工艺腔室施加微波并施加第二电压，使所述第二工艺气体等离子放电，所述第二电压为在施加所述微波之后调节至放电稳定化电压的30％至80％的电压。
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