[发明专利]一种描述同步辐射光源光斑形状的方法及系统有效
| 申请号： | 201610535016.1 | 申请日： | 2016-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN107589137B | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 朱才镇;海洋;孙同兵;赵宁;徐坚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所;深圳大学 |
| 主分类号： | G01N23/201 | 分类号： | G01N23/201 |
| 代理公司： | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 刘元霞;张祖萍 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种描述同步辐射光源光斑形状的方法，该方法包括下列步骤：获取光斑的步骤：确定同步辐射的散射光源，从而得到待描述的同步辐射光源光斑；描述光斑形状的步骤：利用二维高斯函数来描述同步辐射光源光斑的形状；修正光斑形状的步骤：调整所述二维高斯函数中的可调参数以改变其所描述的光斑形状，从而描述出所述待描述的同步辐射光源光斑的形状。本发明还涉及一种描述同步辐射光源光斑形状的系统。本发明利用二维高斯函数来描述同步辐射光源光斑的形状，同步辐射的光源不是理想的点光源，而是具有一定形状的光斑光源，在进行SAXS实验数据的理论分析计算中，将具有一定形状的光源光斑纳入计算的考虑，进而提高散射结果的准确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 描述 同步 辐射 光源 光斑 形状 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种描述同步辐射光源光斑形状的方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：获取光斑的步骤：确定同步辐射的散射光源，从而得到待描述的同步辐射光源光斑；描述光斑形状的步骤：利用二维高斯函数来描述同步辐射光源光斑的形状；修正光斑形状的步骤：调整所述二维高斯函数中的可调参数以改变其所描述的光斑形状，从而描述出所述待描述的同步辐射光源光斑的形状；其中，所述二维高斯函数的形式如式(1)所示：![]()
其中，q12为散射矢量q在子午线方向的分量，q3为散射矢量q在赤道方向的分量；Sx为q12在子午线方向上的方差，Sy为q3在赤道方向上的方差，Sx和Sy为可调参数。
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