[发明专利]硅片喷砂机用硅片输送装置

摘要

本发明涉及硅片制造技术领域，尤其涉及硅片喷砂机用硅片输送装置。该输送装置包括输送架、真空载台和传动装置，所述真空载台可移动地放置于所述输送架上，其中，真空载台包括载台体和固定盘，所述载台体内设有真空腔室，所述固定盘上设有硅片固定区域，所述固定盘盖设于真空腔室上，所述硅片固定区域具有与所述真空腔室连通的用于固定硅片的多个通气孔；所述输送架具有上硅片端和下硅片端；所述传动装置沿输送架的长度方向设置，推动所述真空载台由所述输送架的上硅片端移动至下硅片端，该输送装置利用真空载台固定硅片，无需对硅片做其它紧固夹持操作，提高固定硅片的速度，进而提高硅片的输送效率，同时也降低了硅片出现擦痕和破碎的几率。

主权项

1.一种硅片喷砂机用硅片输送装置，设置于喷枪模组下方，其特征在于：包括输送架、真空载台和传动装置，所述真空载台可移动地放置于所述输送架上，其中，所述真空载台包括载台体和固定盘，所述载台体内设有真空腔室，所述固定盘上设有硅片固定区域，所述固定盘盖设于所述真空腔室上，所述硅片固定区域具有与所述真空腔室连通的用于固定硅片的多个通气孔；所述输送架具有上硅片端和下硅片端；所述传动装置沿所述输送架的长度方向设置，用于推动所述真空载台由所述输送架的上硅片端移动至下硅片端；还包括真空吸管，所述真空吸管的一端与真空泵连接，另一端与所述真空腔室可拆卸地连接，用于保持所述真空腔室内的真空状态；在所述输送架的一侧设置无杆气缸，该无杆气缸包括气缸导轨和套设于气缸导轨上的滑块，所述真空吸管通过固定扣固定在所述滑块上，所述滑块带动所述真空吸管与所述真空腔室连接的一端随所述真空载台移动。