[发明专利]曝光成型装置及其曝光成型方法有效
| 申请号： | 201610554432.6 | 申请日： | 2016-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN107627600B | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 陈鼎钧;张昱仁;周根德 | 申请（专利权）人： | 东友科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/124 | 分类号： | B29C64/124;B29C64/264;B33Y30/00;B33Y40/00 |
| 代理公司： | 72003 隆天知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李昕巍;郑泰强 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光成型装置及其曝光成型方法，所述曝光成型装置包括曝光槽、工作平台以及光学系统，其中曝光槽具有第一表面及第二表面，用以容纳光敏液，而工作平台相对第一表面设置，光学系统相对第二表面设置。光学系统包括发光元件及光学组件，其中发光元件提供光线，光线沿光路径行进。光学组件包括透光元件、第一光学元件以及第一传动机构，透光元件设置于光路径上，第一光学元件于光路径上设置于透光元件之后，第一传动机构沿第一方向设置，且第一传动机构与第一光学元件相连接，以带动第一光学元件沿第一方向移动。借此可扩大成型范围，且达到提高成型的精准度与速度的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 光学元件 光学系统 透光元件 曝光 光路径 成型 成型装置 第二表面 第一表面 发光元件 工作平台 光学组件 方向设置 方向移动 光敏液 精准度 行进 容纳 | ||
【主权项】：
1.一种曝光成型装置，包括：/n一曝光槽，具有一第一表面及一第二表面，用以容纳一光敏液；/n一工作平台，相对该第一表面设置；以及/n一光学系统，相对该第二表面设置，包括：/n一发光元件，提供一光线，该光线沿一光路径行进；以及/n一光学组件，包括：/n一透光元件，设置于该光路径上；/n一第一光学元件，于该光路径上设置于该透光元件之后；以及一第一传动机构，沿一第一方向设置，且与该第一光学元件相连接，以带动该第一光学元件沿该第一方向移动；/n一第二光学元件，于该光路径上设置于该透光元件与该第一光学元件之间；以及/n一第一光学补偿元件及一第二光学补偿元件，该第一光学补偿元件及该第二光学补偿元件于该光路径上设置于该透光元件与该第二光学元件之间，且该第一光学补偿元件与该第一光学元件平行设置，该第二光学补偿元件与该第二光学元件平行设置；/n其中，该光线于穿透该透光元件后，受该第一光学元件反射至该曝光槽，以使该光敏液曝光成型于该工作平台。/n
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