[发明专利]一种超广角半球透镜增透膜及其镀制方法

摘要

本发明涉及一种超广角半球透镜增透膜及其镀制方法。改变传统的设计思维，从膜系设计的角度出发，将增透膜的光谱范围展宽，使边缘膜层薄的位置仍能达到增透效果。无需对传统设备做任何改造，只需控制膜料层沉积速率与工件盘公转速度，即可保证透镜同一圆周内的膜厚均匀。采用离子源刻蚀和离子源辅助沉积的镀膜工艺，提高膜层的附着力和致密性。设计上靠近基底的膜层使用TiO2和SiO2，并且增加离子源辅助，有效的解决TiO2与MgF2膜层的应力问题，消除膜裂风险；最外层采用低折射率MgF2，能够最大限度的降低整个带宽的反射率，在带宽展宽的同时仍然能保证较低的反射率，并且能减少膜层应力，降低膜裂风险。

主权项

1.一种超广角半球透镜增透膜，其特征在于：所述的增透膜(2)由镀制在透镜本体(1)上的13层膜层组成，其中13层膜层依照距离透镜本体从近至远的顺序依次为：第一SiO2膜层(21)、第一TiO2膜层(22)、第二SiO2膜层(23)、第二TiO2膜层(24)、第三SiO2膜层(25)、第三TiO2膜层(26)、第四SiO2膜层(27)、第四TiO2膜层(28)、第五SiO2膜层(29)、第五TiO2膜层(210)、第六SiO2膜层(211)、第六TiO2膜层(212)及MgF2膜层(213)；所述的第一SiO2膜层(21)厚度为20.0‑22.0nm；所述的第一TiO2膜层(22)厚度为11.1‑13.1nm；所述的第二SiO2膜层(23)厚度为52.5‑54.5nm；所述的第二TiO2膜层(24)厚度为7.0‑8.0nm；所述的第三SiO2膜层(25)厚度为216.4‑218.4nm；所述的第三TiO2膜层(26)厚度为12.1‑14.1nm；所述的第四SiO2膜层(27)厚度为39.6‑41.6nm；所述的第四TiO2膜层(28)厚度为35.0‑37.0nm；所述的第五SiO2膜层(29)厚度为10.4‑12.4nm；所述的第五TiO2膜层(210)厚度为77.6‑79.6nm；所述的第六SiO2膜层(211)厚度为22.2‑24.2nm；所述的第六TiO2膜层(212)厚度为22.9‑24.9nm；所述的MgF2膜层(213)厚度为111.4‑113.4nm；所述的透镜本体(1)的凸面曲率半径与口径比为1:1.6‑2.0。