[发明专利]具有亲疏性差异的像素界定层及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201610591897.9 申请日: 2016-07-25
公开(公告)号: CN107026187A 公开(公告)日: 2017-08-08
发明(设计)人: 卢泓;李哲 申请(专利权)人: 广东聚华印刷显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 代理人: 李海恬
地址: 510000 广东省广州市广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种具有亲疏性差异的像素界定层及其制备方法和应用,属于照明/显示面板的制备技术领域。该方法包括以下步骤制备薄膜层以像素界定层材料在具有导电阳极的基板上形成薄膜层,并在该薄膜层上制备得到容纳打印墨水的像素坑;所述像素坑的侧壁与所述基板之间具有倾斜的角度;选择性活化将掩膜板覆盖于上述薄膜层上,进行活化处理;所述掩膜板上与所述像素坑对应的位置进行开窗处理,将像素坑内预定进行活化处理的区域露出。从而实现了在像素界定层的上、下部分具有不同的亲疏性。当墨水打印之后,墨水边缘就会钉扎在像素界定层斜坡上亲墨水的下层位置,保证了像素内薄膜的均匀性,进而提高了印刷型发光显示器件的性能。
搜索关键词: 具有 亲疏 差异 像素 界定 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种具有亲疏性差异的像素界定层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:制备薄膜层:以像素界定层材料在具有导电阳极的基板上形成薄膜层,并在该薄膜层上制备得到容纳打印墨水的像素坑;所述像素坑的侧壁与所述基板之间具有倾斜的角度;选择性活化:将掩膜板覆盖于上述薄膜层上,进行活化处理;所述掩膜板上与所述像素坑对应的位置进行开窗处理,将像素坑内预定进行活化处理的区域露出,使像素坑内露出的区域经活化处理后表现为亲墨水性,而被掩膜板遮蔽的区域未经活化处理而表现为疏墨水性。
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