[发明专利]压印掩膜版及纳米压印方法在审
| 申请号： | 201610596067.5 | 申请日： | 2016-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN105974732A | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 周婷婷;姚继开;关峰;王英涛;何晓龙;张斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种压印掩膜版及纳米压印方法，属于压印技术领域。本发明的压印掩模版，包括压印板，其具有工作区域和将工作区域包围的边缘区域；以及设置在压印板的边缘区域的遮光层。由于在本发明的压印掩膜版的压印板边缘区域设置遮光层，因此在通过该压印掩膜版进行大面积纳米压印中，与压印板的边缘区域对应位置的压印胶被遮光层遮挡，从而在紫外固化过程中不会被固化，只有与压印板工作区域对应位置的压印胶被固化，在显影过程洗掉未固化的压印胶，在下一次压印过程中可以在完全贴合的位置进行压印，拼接缝的大小只取决于对位精度，不会受到上一次压印过程中与压印板的边缘区域对应位置的压印胶影响，可以有效减小拼接缝，提高拼接精度。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 掩膜版 纳米 方法 | ||
【主权项】：
一种压印掩模版，包括压印板，其特征在于，所述压印板具有工作区域和将所述工作区域包围的边缘区域；所述压印掩模版还包括设置在所述压印板的边缘区域的遮光层。
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