[发明专利]正电子发射断层成像系统探测效率检测、校正方法及装置有效
| 申请号： | 201610617134.7 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN106264588B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 申宝忠;郭金霞;吕杨;唐嵩松;王凯 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;A61B6/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201807 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种正电子发射断层成像探测效率的检测、校正方法及装置。检测方法包括：使用该正电子发射断层成像系统进行第一采集，获取影响探测效率的第一活度相关因子；使用该正电子发射断层成像系统进行第二采集，并根据第二采集所得数据及所述第一活度相关因子获取影响探测效率的第二活度相关因子；在所述第二采集所得数据中，去除受所述第二活度相关因子影响的信息，及去除受被采集物体的几何分布信息影响的信息，以获取探测器固有晶体探测效率。并进一步利用该探测器固有晶体探测效率进行校正。在获取的探测器固有晶体探测效率基础上，结合几何结构因子、活度相关因子对采集数据进行自适应校正，以方便、准确地完成系统归一化校正。 | ||
| 搜索关键词： | 正电子 发射 断层 成像 系统 探测 效率 检测 校正 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种正电子发射断层成像系统探测效率检测方法，包括：使用该正电子发射断层成像系统进行第一采集，获取影响探测效率的第一活度相关因子；使用该正电子发射断层成像系统进行第二采集，并根据第二采集所得数据及所述第一活度相关因子获取影响探测效率的第二活度相关因子；在所述第二采集所得数据中，去除受所述第二活度相关因子影响的信息，及去除受被采集物体的几何分布信息影响的信息，以获取探测器固有晶体探测效率。
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