[发明专利]高分子化合物、正型抗蚀剂组合物、层叠体及抗蚀剂图案形成方法

摘要

本发明的课题在于提供一种高分子化合物，其适合作为能够形成抗蚀剂膜的抗蚀剂组合物的基础树脂，所述抗蚀剂膜能够形成具有极高的析像性、边缘粗糙度小、矩形度优异的图案。为了解决上述课题，提供一种高分子化合物，其特征在于，含有由下述通式(1c)所示的重复单元、以及选自由下述通式(2)所示的重复单元及由下述通式(3)所示的重复单元中的1种以上的重复单元；式(1c)中，M_b⁺表示由下述通式(a)所示的锍阳离子或由下述通式(b)所示的碘鎓阳离子。

主权项

1.一种高分子化合物，其特征在于，含有由下述通式(1c)所示的重复单元、以及选自由下述通式(2)所示的重复单元及由下述通式(3)所示的重复单元中的1种以上的重复单元；式(1c)中，R¹表示氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；A表示单键或可以夹杂杂原子的碳数1～30的直链状、或碳数3～30的支链状或环状二价烃基，该烃基中的氢原子的一部分或全部可以被包含杂原子的基团取代；n表示0或1；在A为单键时n必须为0；M_b⁺表示由下述通式(a)所示的锍阳离子或由下述通式(b)所示的碘鎓阳离子；R⁴⁰⁰‑I⁺‑R⁵⁰⁰   (b)式(a)、式(b)中，R¹⁰⁰、R²⁰⁰、R³⁰⁰、R⁴⁰⁰及R⁵⁰⁰分别独立地为杂原子，或表示可以夹杂杂原子的碳数1～20的直链状、或碳数3～20的支链状或环状一价烃基，该烃基中的氢原子的一部分或全部可以被包含杂原子的基团取代；此外，R¹⁰⁰、R²⁰⁰及R³⁰⁰中的任意2个以上可以相互键接并与式中的硫原子一起形成环；式(2)、式(3)中，G表示单键、或可以夹杂醚性氧原子的碳数1～10的亚烷基；D表示单键、或醚性氧原子、羰基、或者可以夹杂羰氧基的碳数1～10的直链状、或碳数3～10的支链状或环状的(v+1)价脂肪族烃基，该脂肪族烃基中的氢原子的一部分或全部可以被氟原子取代；R¹与前述相同；R²分别表示氢原子、卤素原子、碳数2～8的直链状、或碳数3～8的支链状或环状酰氧基、碳数1～6的直链状、或碳数3～6的支链状或环状烷基、或碳数1～6的直链状、或碳数3～6的支链状或环状烷氧基，前述酰氧基、前述烷基及前述烷氧基中的氢原子的一部分或全部可以被卤素取代；Rf₁、Rf₂分别表示具有至少1个氟原子的碳数1～6的烷基，Rf₁可以与D键接而和它们所键接的碳原子一起形成环；g为0～3的整数，h、v分别为1或2；p、r分别为0或1，但当r为0时，p为1，G为单键；t、u分别为0～2的整数，b为(5+2t‑g)的整数，c为(5+2u‑h)的整数。