[发明专利]一种射频等离子体原位清洗第一镜的方法

摘要

本发明提供一种射频等离子体原位清洗第一镜的方法，其特征在于采用同轴电缆将射频电源引入与托卡马克装置真空室相连的样品交换室中，并将其连接到第一镜上；通过样品交换室样品传送杆推送第一镜至托卡马克装置真空室中；向托卡马克装置真空室内充入工作气体，并打开射频电源对第一镜施加射频电压；逐渐升高射频功率，调节射频电源匹配器使射频反射功率为零，在第一镜表面产生射频等离子体；根据第一镜表面沉积层的种类，调节第一镜自偏压，使等离子体溅射清洗第一镜表面沉积层，清洗一段时间后，关闭射频电源并停止清洗；同时，通过样品交换室和样品传送杆取出第一镜样品，进行后续表征。

主权项

一种射频等离子体原位清洗第一镜的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤A：将待清洗第一镜样品安装在样品交换室内可移动结构上，其上连接有屏蔽端，同时，待清洗第一镜样品和其上连接的屏蔽端通过同轴电缆连接位于样品交换室外的射频电源，所述的射频电源上还连接有射频匹配器；步骤B：所述的样品交换室通过阀门连接托卡马克装置真空室，同时所述的样品交换室上还设有由机械泵和分子泵组成的独立真空泵组以及法兰；步骤C：采用真空泵组将样品交换室的真空度抽至5×10^‑5 Pa以下，打开阀门，通过可移动结构将待清洗第一镜样品推送至托卡马克装置真空室内，托卡马克装置真空室内充入工作气体；步骤D：打开射频电源，增加射频输入功率并调节射频匹配器，使待清洗第一镜样品表面产生射频等离子体，并保持射频反射功率为零，调节清洗参数并清洗第一镜样品表面杂质；步骤E：清洗结束后，关闭射频电源，并通过可移动结构将清洗过的第一镜样品退送至样品交换室内，关闭阀门，通过法兰对样品交换室内充气后取出第一镜样品进行事后分析。