[发明专利]嵌段共聚物和相关光致抗蚀剂组合物以及形成电子装置的方法有效
| 申请号： | 201610640174.3 | 申请日： | 2016-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN106632918B | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | J·W·萨克莱;K·杜;P·特雷福纳斯三世;I·布莱基;A·K·惠特克 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司;昆士兰大学 |
| 主分类号： | C08F293/00 | 分类号： | C08F293/00;C08F220/18;C08F220/22;C08F220/38;C08F220/28;C08F8/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种适用于电子束和远紫外线光刻的嵌段共聚物，其包括具有来源于碱溶解度增强型单体和频带外吸收型单体的单元的第一嵌段，和具有低表面能的第二嵌段。来源于频带外吸收型单体的重复单元允许共聚物在150到400纳米波长范围内大量吸收。当与光致抗蚀剂无规聚合物一起并入光致抗蚀剂组合物中时，所述嵌段共聚物自动分离以形成可有效屏蔽频带外辐射的顶层。 | ||
| 搜索关键词： | 共聚物 相关 光致抗蚀剂 组合 以及 形成 电子 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种嵌段共聚物，其包含：第一嵌段，其包含来源于以下各者的重复单元频带外吸收型单体，其包含未经取代或经取代的不含氟的C6‑C18芳基、未经取代或经取代的C2‑C17杂芳基、C5‑C12二烯酮基团，或其组合，和来源于以下的重复单元碱溶解度增强型单体，所述碱溶解度增强型单体选自由以下组成的群组：酸不稳定(甲基)丙烯酸酯、碱不稳定(甲基)丙烯酸酯、经pKa是2到12的基团取代的(甲基)丙烯酸酯和其组合；和第二嵌段，其具有15到34毫焦耳/米2的表面能，使用欧文斯‑万特方法由18欧姆去离子水、亚甲基碘和二乙二醇的接触角测定，所述接触角是通过固着液滴法在接触角测角计上测量；其中由所述嵌段共聚物铸成的薄膜在150到400纳米范围内的波长下的消光系数k是0.1到0.5。
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