[发明专利]用于质谱仪的限流离子引入接口装置有效
| 申请号： | 201610642476.4 | 申请日： | 2016-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN107706082B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 蒋公羽;张俊生;孙文剑 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | H01J49/04 | 分类号： | H01J49/04;H01J49/24 |
| 代理公司： | 31219 上海光华专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 高彦<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 日本国京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种质谱仪的离子引入口结构，特别涉及一种具有短管结构的限制气流性质谱仪离子引入口结构。该结构位于从位于上游较高气压环境的离子源及位于下游较低气压的离子传输电极系统区之间，至少包括一个具有较小直径的气流约束管和位于其下游的具有较大直径的离子去溶剂管。与传统的等内径毛细管形离子传输接口相比，其在等气流限制条件下具有更佳的离子传输效率，同时减少其低质量歧视。此外，对于长期运行较脏的实际样品或弱前处理样品时，气流约束管可以被廉价及快速的替换，增加了使用该离子引入口结构质谱仪的鲁棒性及运行效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 质谱仪 限流 离子 引入 接口 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于质谱仪的限流离子引入接口装置，其特征在于，包括以下结构：/n开口位于上游较高气压环境的离子源区的气流约束管；其中，所述气流约束管为单毛细管结构；/n出口位于下游较低气压的离子传输电极系统区域的离子去溶剂管；/n所述气流约束管的长度与其最大内径比例大于等于10：1；/n所述离子去溶剂管的最小内径为所述气流约束管的最大内径的3倍及以上；/n所述离子去溶剂管的长度大于所述气流约束管的长度；/n温度控制设备，用于对所述离子去溶剂管的温度进行控制，获得用于去除残余溶剂-离子间结合的确定温度。/n
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