[发明专利]还原炉及使用该还原炉的多晶硅生产工艺在审
| 申请号： | 201610666386.9 | 申请日： | 2016-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN107758671A | 公开（公告）日： | 2018-03-06 |
| 发明（设计）人： | 齐林喜;贾海军 | 申请（专利权）人： | 内蒙古盾安光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 015543 内蒙古自*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 一种还原炉，用于多晶硅生产，包括还原炉底盘、设置在还原炉底盘上的还原炉钟罩及设置在还原炉底盘上的电极，电极的间距在80到200毫米之间。本发明还提供了使用该还原炉的多晶硅生产工艺。本发明的还原炉在多晶硅生产过程中，密度增大，硅棒之间辐射热量增大，热量和物料利用率增加，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 还原 使用 多晶 生产工艺 | ||
【主权项】：
一种还原炉，用于多晶硅生产，包括还原炉底盘、设置在还原炉底盘上的还原炉钟罩及设置在还原炉底盘上的电极，其特征在于，电极的间距在80到200毫米之间。
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