[发明专利]一种基于伯努利效应的底座及外延设备在审
| 申请号： | 201610670487.3 | 申请日： | 2016-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN107761165A | 公开（公告）日： | 2018-03-06 |
| 发明（设计）人： | 刘源;汪燕 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人： | 刘星 |
| 地址： | 201306 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于伯努利效应的底座及外延设备，包括底座主体及设于所述底座主体背面的支撑杆，其中所述底座主体内部设有空腔；所述支撑杆中设有与所述空腔连通的喷射气体供气孔；所述底座主体正面设有若干与所述空腔连通的喷射气体出气孔；所述喷射气体出气孔向所述底座主体外侧倾斜，用于从所述底座主体正面向所述底座主体外侧喷射气体，使所述底座主体正面气压降低，利用伯努利效应将晶圆吸附于所述底座主体正面。本发明的外延设备在同一反应腔内可同时生长2片外延片，有利于提高产率；晶圆与底座之间无直接接触；并且晶圆加热主要是通过底座的热辐射和热传导，底座表面不易生长外延层，因此能够克服由于外延层较厚而引起的粘片问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 伯努利 效应 底座 外延 设备 | ||
【主权项】：
一种基于伯努利效应的底座，包括底座主体及设于所述底座主体背面的支撑杆，其特征在于：所述底座主体内部设有空腔；所述支撑杆中设有与所述空腔连通的喷射气体供气孔；所述底座主体正面设有若干与所述空腔连通的喷射气体出气孔；所述喷射气体出气孔向所述底座主体外侧倾斜，用于从所述底座主体正面向所述底座主体外侧喷射气体，使所述底座主体正面气压降低，利用伯努利效应将晶圆吸附于所述底座主体正面。
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