[发明专利]觉知周围环境的OPC有效
| 申请号： | 201610674417.5 | 申请日： | 2016-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN106468853B | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 郑文立;池明辉;刘如淦;黄文俊 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | 本公开提供了执行光学邻近校正(OPC)的方法。接收集成电路(IC)设计布局。设计布局包含多个IC布局图案。多个IC布局图案中的两个或多个分组到一起。分组的IC布局图案被划分，或者设置分组的IC布局图案的目标点。此后，基于分组的IC布局图案执行OPC工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 分组 设计布局 光学邻近校正 目标点 集成电路 | ||
【主权项】：
1.一种执行光学邻近校正(OPC)的方法，包括：/n接收集成电路设计布局，所述设计布局包含多个集成电路布局图案，其中，所述多个集成电路布局图案是不能通过双重图案化来分辨的图案；/n将所述多个集成电路布局图案中的两个或多个成组；/n对成组的集成电路布局图案进行划分或设置目标点；以及/n此后基于所述成组的集成电路布局图案执行光学邻近校正工艺。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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