[发明专利]鳍式场效应晶体管结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610680892.3 申请日: 2016-08-17
公开(公告)号: CN106601735B 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 张哲诚;林志翰 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234;H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 描述了一种鳍式场效应晶体管,包括衬底、多个绝缘物、至少一个栅极堆叠件和应变材料部分。衬底具有位于衬底上的多个鳍以及鳍包括嵌入在鳍中的停止层。多个绝缘物设置在衬底上和多个鳍之间。至少一个栅极堆叠件设置在多个鳍上方和设置在多个绝缘物上。应变材料部分设置在至少一个栅极堆叠件的相对两侧上。本发明实施例涉及鳍式场效应晶体管结构及其制造方法。
搜索关键词: 场效应 晶体管 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种鳍式场效应晶体管,包括:/n衬底,具有多个鳍,其中,所述多个鳍的至少一个包括嵌入在所述多个鳍的至少一个中的停止层;/n多个绝缘物,设置在所述衬底上以及设置在所述多个鳍之间;/n至少一个栅极堆叠件,设置在所述多个鳍上方以及设置在所述多个绝缘物上;以及/n应变材料部分,设置在沿所述多个鳍的延伸方向相邻的两个所述栅极堆叠件之间,所述停止层设置在所述应变材料部分的相对两侧上。/n
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