[发明专利]用于多管PECVD设备的自动上下料系统及其方法有效
申请号: | 201610689377.1 | 申请日: | 2016-08-19 |
公开(公告)号: | CN106282971B | 公开(公告)日: | 2018-09-18 |
发明(设计)人: | 张宇;朱辉;瞿鸿海;谢振勇 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 一种用于多管PECVD设备的自动上下料系统,包括推车、缓存架、石墨舟、石墨舟装载机构、推舟、上水平导轨、下水平导轨及垂直导轨,垂直导轨滑设于水平导轨上,推舟滑设于垂直导轨上,石墨舟装载机构与推舟连接,推舟的推送方向与推舟导向机构所在的平面垂直,推车和缓存架的底部均预留取放口。上料:将石墨舟推送至设定位置,将石墨舟装载机构推送至取放口下方,石墨舟装载机构上升将石墨舟托起与推车分离,石墨舟装载机构上升至高度与反应腔体一致,石墨舟装载机构将石墨舟送入反应腔体内;下料:石墨舟装载机构将石墨舟从反应腔体内取出;推舟将石墨舟装载机构推送至取放口上方,石墨舟装载机构下降经过取放口后,石墨舟落于缓存架或推车上。 | ||
搜索关键词: | 石墨舟 装载机构 推舟 取放口 推送 垂直导轨 水平导轨 推车 自动上下料系统 反应腔 缓存架 多管 滑设 体内 导向机构 反应腔体 平面垂直 上料 托起 下料 预留 取出 送入 | ||
【主权项】:
1.一种用于多管PECVD设备的自动上下料系统,包括推车(1)、缓存架(2)、石墨舟(3)、石墨舟装载机构(4)及推舟(5),其特征在于:还包括推舟导向机构(6),所述推舟导向机构(6)包括上水平导轨(61)、下水平导轨(62)及垂直导轨(63),所述垂直导轨(63)上下两端分别滑设于所述上水平导轨(61)和下水平导轨(62)上,所述推舟(5)滑设于所述垂直导轨(63)上,所述石墨舟装载机构(4)与所述推舟(5)连接,所述推舟(5)的推送方向与所述推舟导向机构(6)所在的平面垂直,所述推车(1)和所述缓存架(2)的底部均预留供所述石墨舟装载机构(4)通过的取放口(7),所述推舟(5)包括第一悬臂板(51)、第二悬臂板(52)、第一驱动机构(53)及滑设于所述垂直导轨(63)上的安装座(59),所述第一悬臂板(51)与所述安装座(59)固定连接并于下侧固设沿推送方向布置的第一滑动导轨(511),所述第二悬臂板(52)上侧固设有第一滑块(521),所述第一滑块(521)滑设于所述第一滑动导轨(511)上,所述第一驱动机构(53)包括第一驱动电机(531)、一对第一皮带轮(532)及绕设于一对第一皮带轮(532)上的第一传动皮带(533),一对所述第一皮带轮(532)安装于所述第一悬臂板(51)上并沿所述第一滑动导轨(511)的长度方向布置,所述第一驱动电机(531)与其中一个第一皮带轮(532)连接,所述第二悬臂板(52)与所述第一传动皮带(533)固定连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的