[发明专利]矩阵分布式的底注浇注系统

摘要

本发明提供一种矩阵分布式的底注浇注系统，包括横浇道，横浇道与铸件相对的一侧上设有L形台阶面，L形台阶面的一个面上集成有一列第一入流口，另一面上集成有一列第二入流口，第一入流口和第二入流口呈矩阵分布且第一入流口和第二入流口的数量与铸件上薄壁数量相同，第一入流口的钢液流向矢量与第二入流口的钢液流向矢量相交。本发明采用矩阵式分布的底注浇注系统，确保了铸件整体所有部位都以底部浇注的形式实现充型，从而有利于确保铸件良好成形。横浇道与铸件薄壁特征直接相连、集成了入流口，使得铸件清理方便。矩阵两列入流口分布比例，在设计上可根据需要进行调整，从而实现对钢液充型流动的定向控制。

主权项

一种矩阵分布式的底注浇注系统，其特征在于：包括与直浇道(4)连接的横浇道(5)，所述横浇道(5)位于铸件(1)薄壁(3)的下方，所述横浇道(5)与铸件(1)相对的一侧上设有L形台阶面，所述L形台阶面的一个面上集成有一列第一入流口(9)，另一面上集成有一列第二入流口(10)，所述第一入流口(9)和第二入流口(10)呈矩阵分布且第一入流口(9)和第二入流口(10)的数量与铸件(1)上薄壁(3)数量相同且一一对应，所述第一入流口(9)的钢液流向矢量与所述第二入流口(10)的钢液流向矢量相交。