[发明专利]一种旋转靶及磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201610726371.7 | 申请日： | 2016-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN106319465B | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 张斌;詹裕程;孙雪菲;周婷婷;舒适;王新星 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种旋转靶及磁控溅射装置，涉及磁控溅射技术领域，用以解决靶材混合成型后无法进行组分调整的问题。该旋转靶，包括多个靶单元，各个靶单元围绕旋转轴线可拆卸连接构成封闭结构。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转靶 磁控溅射装置 磁控溅射技术 可拆卸连接 封闭结构 混合成型 旋转轴线 组分调整 靶材 | ||
【主权项】：
1.一种旋转靶，其特征在于，包括多个靶单元，各个所述靶单元围绕旋转轴线可拆卸连接构成封闭结构；所述封闭结构为圆环柱体；各个所述靶单元的结构相同；相邻两个所述靶单元中，其中一个所述靶单元的连接面上设有凸部，另一个所述靶单元的连接面上设有凹部，所述凸部可沿第一方向卡在所述凹部中，所述第一方向为所述连接面的垂线方向，以使得两个所述连接面相接触。
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