[发明专利]一种测序反应小室制备方法在审
| 申请号： | 201610739622.5 | 申请日： | 2016-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN107779386A | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 盛司潼;祝捷 | 申请（专利权）人： | 广州康昕瑞基因健康科技有限公司 |
| 主分类号： | C12M1/00 | 分类号： | C12M1/00;C12M1/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 510000 广东省广州市萝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及基因测序设备制造领域，提供了一种测序反应小室的制备方法，包括以下步骤遮掩步骤，将第二基片凹槽底面或第一表面对应凹槽开口范围的区域定义为目标区域，用物理方法对目标区域进行遮掩；第一等离子化步骤，对第一基片的第一表面未遮掩的区域进行等离子化处理；第二等离子化步骤，对第二基片的第二表面未遮掩的区域进行等离子化处理；键合步骤，移除遮掩，将第一基片的第一表面和第二基片的第二表面接触键合；硅烷化步骤，对键合产物中的目标区域的相对表面进行硅烷化，得测序反应小室。通过等离子化实现键合后再进行硅烷化能够更方便、简单的制备测序反应小室。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反应 小室 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种测序反应小室制备方法，包括下列步骤：遮掩步骤，第一基片包括第一表面，第二基片包括朝向第一表面的第二表面，第二表面开设凹槽，将第二基片凹槽底面或第一表面上对应凹槽开口范围的区域定义为目标区域，用物理方法对目标区域进行遮掩；第一等离子化步骤，对第一基片的第一表面未遮掩的区域进行等离子化处理，将第一表面改性为亲水表面；第二等离子化步骤，对第二基片的第二表面未遮掩的区域进行等离子化处理，将第二表面改性为亲水表面；键合步骤，移除遮掩，将第一基片的第一表面和第二基片的第二表面接触键合，得键合产物；硅烷化步骤，对键合产物中的目标区域的相对表面进行硅烷化，得测序反应小室。
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