[发明专利]一种图形化导电薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201610749830.3 | 申请日： | 2016-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN106298070B | 公开（公告）日： | 2017-09-15 |
| 发明（设计）人： | 郭小军;陈苏杰;唐伟;丁立 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种图形化导电薄膜的制备方法，首先在衬底上采用点胶工艺形成预定图形的聚合物掩模，然后对该衬底进行氧等离子或是紫外光照射处理以提高亲水性，再通过溶液工艺在附有所述聚合物掩模的衬底上制备导电薄膜，最后将该聚合物掩模从所述衬底上剥离，从而得到图形化的导电薄膜。本发明中的聚合物掩模图形可由自动化点胶设备中软件的自由设计，所得到的导电薄膜可满足溶液工艺生产的电子器件小批量、多样性的需求，使电子器件的生产更为灵活；所形成的掩模图形方法简单，并能够兼容导电薄膜的溶液工艺，降低了导电薄膜图形化的工艺复杂程度；在图形化过程中，所需的图形化导电薄膜表面没有其他材料覆盖，减少了清洗覆盖材料的步骤，避免了清洗时对导电薄膜的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 导电 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种图形化导电薄膜的制备方法，其特征在于，首先在衬底上采用点胶工艺形成预定图形的聚合物掩模，然后对该衬底进行氧等离子或是紫外光照射处理以提高亲水性，再通过溶液工艺在附有所述聚合物掩模的衬底上制备导电薄膜，最后将该聚合物掩模从所述衬底上剥离，从而得到图形化的导电薄膜。
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