[发明专利]一种N型单晶双面电池的制备方法有效
申请号: | 201610759745.5 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN106299027B | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 励小伟;梁海;赖儒丹;周涛铭;胡巧;张小明 | 申请(专利权)人: | 浙江启鑫新能源科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0236 |
代理公司: | 宁波市鄞州甬致专利代理事务所(普通合伙)33228 | 代理人: | 沈锡倍 |
地址: | 315700 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种成片率高且光电转换效率好的N型单晶双面电池的制备方法,包括如下步骤硅片正面制绒后进行B扩散,正面制绒具体为先用激光在硅片正面形成金字塔结构,氮气清洁干净后,加热硅片到70°~80°,利用超声波雾化在硅片正面沉积NaOH小液滴,经过2~4分钟腐蚀后形成金字塔绒面结构;进行湿法蚀刻,去除硅片背面、边缘形成的自扩散层,然后沉积SiNX掩膜;对硅片背面进行P扩散后,等离子蚀刻边缘的自扩散层,并用腐蚀液进行清洗,去除表面SiNX掩膜层和磷硅玻璃层;利用ALD方式形成硅片正面Al2O3钝化膜,并在硅片正面沉积SiNX保护膜、在硅片背面沉积SiNX减反膜;在丝网印刷形成电极进行烧结。 | ||
搜索关键词: | 一种 型单晶 双面 电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种N型单晶双面电池的制备方法,具体包括如下步骤:S1在硅片正面制绒,然后进行B扩散;S2进行湿法蚀刻,去除硅片背面、边缘形成的自扩散层;S3然后采用PEVCD设备在B扩散层上面沉积SiNX掩膜;S4对硅片背面进行P扩散;S5等离子蚀刻硅片边缘的自扩散层,接着用腐蚀液对硅片进行清洗,去除硅片表面SiNX掩膜层和磷硅玻璃层;S6利用ALD方式形成硅片正面Al2O3钝化膜,然后在硅片正面沉积SiNX保护膜、在硅片背面沉积SiNX减反膜;S7在硅片的正面和背面分别进行丝网印刷形成电极,然后烧结;其特征在于,步骤S1所述在硅片正面制绒的具体方法为:先用激光在硅片正面形成金字塔结构,并用氮气清洁干净,然后加热硅片到70°~80°,利用超声波雾化技术在硅片正面沉积一层均匀、不连续的NaOH小液滴,经过2~4分钟腐蚀后在硅片正表面形成金字塔绒面结构。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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