[发明专利]一种N型单晶双面电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610759745.5 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106299027B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 励小伟;梁海;赖儒丹;周涛铭;胡巧;张小明 申请(专利权)人: 浙江启鑫新能源科技股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0236
代理公司: 宁波市鄞州甬致专利代理事务所(普通合伙)33228 代理人: 沈锡倍
地址: 315700 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种成片率高且光电转换效率好的N型单晶双面电池的制备方法,包括如下步骤硅片正面制绒后进行B扩散,正面制绒具体为先用激光在硅片正面形成金字塔结构,氮气清洁干净后,加热硅片到70°~80°,利用超声波雾化在硅片正面沉积NaOH小液滴,经过2~4分钟腐蚀后形成金字塔绒面结构;进行湿法蚀刻,去除硅片背面、边缘形成的自扩散层,然后沉积SiNX掩膜;对硅片背面进行P扩散后,等离子蚀刻边缘的自扩散层,并用腐蚀液进行清洗,去除表面SiNX掩膜层和磷硅玻璃层;利用ALD方式形成硅片正面Al2O3钝化膜,并在硅片正面沉积SiNX保护膜、在硅片背面沉积SiNX减反膜;在丝网印刷形成电极进行烧结。
搜索关键词: 一种 型单晶 双面 电池 制备 方法
【主权项】:
一种N型单晶双面电池的制备方法,具体包括如下步骤:S1在硅片正面制绒,然后进行B扩散;S2进行湿法蚀刻,去除硅片背面、边缘形成的自扩散层;S3然后采用PEVCD设备在B扩散层上面沉积SiNX掩膜;S4对硅片背面进行P扩散;S5等离子蚀刻硅片边缘的自扩散层,接着用腐蚀液对硅片进行清洗,去除硅片表面SiNX掩膜层和磷硅玻璃层;S6利用ALD方式形成硅片正面Al2O3钝化膜,然后在硅片正面沉积SiNX保护膜、在硅片背面沉积SiNX减反膜;S7在硅片的正面和背面分别进行丝网印刷形成电极,然后烧结;其特征在于,步骤S1所述在硅片正面制绒的具体方法为:先用激光在硅片正面形成金字塔结构,并用氮气清洁干净,然后加热硅片到70°~80°,利用超声波雾化技术在硅片正面沉积一层均匀、不连续的NaOH小液滴,经过2~4分钟腐蚀后在硅片正表面形成金字塔绒面结构。
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