[发明专利]互连基板、其制作方法及垂直堆叠式半导体组件在审

专利信息
申请号: 201610768709.5 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106505062A 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 林文强;王家忠 申请(专利权)人: 钰桥半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/525 分类号: H01L23/525;H01L23/528;H01L25/00;H01L21/60
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 曹玲柱
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种互连基板、其制作方法及垂直堆叠式半导体组件。本发明的互连基板在凹穴周围处设有垂直连接通道,接触垫由凹穴显露,且垂直连接通道由金属柱与金属化盲孔结合而成。该凹穴包括有核心层中的凹口及加强层中的穿口。设置于核心层顶面上的金属柱封埋于加强层中,且电性连接至邻近核心层底面的增层电路。用于垂直连接的金属柱,其可利用凹穴的深度以降低金属柱所需的最小高度。增层电路通过金属化盲孔,电性连接至金属柱,并提供从凹穴显露的接触垫,以用于连接元件。
搜索关键词: 互连 制作方法 垂直 堆叠 半导体 组件
【主权项】:
一种具有凹穴的互连基板,其特征在于,适用于可堆叠式半导体组件,该互连基板包括:一核心层,其具有一第一表面及一相反的第二表面;一增层电路,其设置于该核心层的该第一表面上,并具有背向该核心层的该第一表面的一外表面;一加强层,其设置于该核心层的该第二表面上,并具有背向该核心层的该第二表面的一外表面;一系列金属柱,其封埋于该加强层中,且由该加强层的该外表面显露,并通过该核心层中的金属化盲孔电性连接至该增层电路;以及一凹穴,其包含该加强层中的一穿口及该核心层中的一凹口,该穿口与该凹口相互对准,且该凹穴具有一底表面及侧壁,该底表面背向该增层电路的该外表面,而该些侧壁由该底表面延伸至该加强层的该外表面,其中,该增层电路具有一系列接触垫,且该些接触垫由该底表面显露。
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