[发明专利]三重图形化的方法

摘要

一种三重图形化的方法，包括：提供基底，基底表面形成有掩模层；提供目标图形，定义出基底上待图形化的区域，目标图形包括沿第一方向延伸的第一边界和第二边界、以及沿第二方向延伸的第三边界和第四边界；对掩模层进行第一图形化处理，去除第一部分掩模层，第一部分掩模层与第一边界间隔第一预设距离；对掩模层进行第二图形化处理，去除第二部分掩模层，第二部分掩模层与第二边界间隔第二预设距离；对掩模层进行第三图形化处理，去除第三部分掩模层，第三部分掩模层位于目标图形之外且与第三边界和第四边界相邻；以剩余的掩模层为掩模刻蚀基底，形成图形化区域。本发明实施例的三重图形化方法增大基底上的图形密度、减小图形间距。

主权项

1.一种三重图形化的方法，其特征在于，包括：/n提供基底，所述基底表面形成有掩模层；/n提供目标图形，所述目标图形用于定义所述基底上待图形化的区域，所述目标图形包括：沿第一方向延伸的第一边界和第二边界、以及沿第二方向延伸的第三边界和第四边界，其中所述第一方向垂直于所述第二方向；/n对所述掩模层进行第一图形化处理，去除第一部分掩模层，所述第一部分掩模层位于所述目标图形之外所述第一边界的一侧，且与所述第一边界间隔第一预设距离；对所述掩模层进行第二图形化处理，去除第二部分掩模层，所述第二部分掩模层位于所述目标图形之外所述第二边界的一侧，且与所述第二边界间隔第二预设距离，以对所述目标图形沿第一方向的两个边界分别由所述第一图形化处理和第二图形化处理两个步骤来定义；/n对所述掩模层进行第三图形化处理，去除第三部分掩模层，所述第三部分掩模层位于所述目标图形之外且与所述第三边界和第四边界相邻；/n以去除所述第一部分掩模层、第二部分掩模层和第三部分掩模层后剩余的掩模层为掩模刻蚀所述基底，在所述基底内形成与所述目标图形对应的图形化的区域。/n