[发明专利]薄膜晶体管阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610807781.4 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN106783869B 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 谢露露;熊彬;韩云 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 44304 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 代理人: 孙伟峰;武岑飞<国际申请>=<国际公布>
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种薄膜晶体管阵列基板及其制造方法。薄膜晶体管阵列基板包括:基底,包括显示区域和非显示区域,非显示区域围绕显示区域并且包括肖特基二极管,其中,所述肖特基二极管包括:阳极层和阴极层,形成基底上;栅极绝缘层,形成在基底上并且覆盖阳极层和阴极层;第一栅电极,形成在栅极绝缘层上并且与阳极层和阴极层叠置;层间绝缘层,形成在栅极绝缘层上并且覆盖第一栅电极,并且包括用于暴露阳极层和阴极层的接触孔;第一外接电压和第二外接电压,形成在层间绝缘层上,并且分别通过接触孔连接到阳极层和阴极层。本发明的肖特基二极管与薄膜晶体管一同形成在基底上,因此,不需要额外增加工序,从而简化了制造工艺。
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述薄膜晶体管阵列基板包括:/n基底,包括显示区域和非显示区域,非显示区域围绕显示区域并且包括肖特基二极管,/n其中,所述肖特基二极管包括:/n阳极层和阴极层,形成基底上;/n栅极绝缘层,形成在基底上并且覆盖阳极层和阴极层;/n第一栅电极,形成在栅极绝缘层上并且与阳极层和阴极层叠置;/n层间绝缘层,形成在栅极绝缘层上并且覆盖第一栅电极,并且包括用于暴露阳极层和阴极层的接触孔;/n第一外接电压和第二外接电压,形成在层间绝缘层上,并且分别通过接触孔连接到阳极层和阴极层;/n所述显示区域包括薄膜晶体管,/n其中,所述薄膜晶体管包括:/n有源层,形成在基底上;/n第二栅电极,与有源层绝缘;/n源电极和漏电极,电连接到有源层;/n阳极层和阴极层与所述有源层设置在同一层上。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610807781.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top