[发明专利]搬送方法、曝光方法、曝光裝置、及元件制造方法在审
| 申请号： | 201610832269.5 | 申请日： | 2012-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106919001A | 公开（公告）日： | 2017-07-04 |
| 发明（设计）人： | 柴崎佑一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 王涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 搬送方法、曝光方法、曝光裝置、及元件制造方法。本发明提供一种搬送系统，具备保持被载置的晶片(W)且能沿既定平面移动的微动载台(WFS)、从上方以非接触方式保持晶片且能垂直地移动的夹具本体(130)、以及能在微动载台(WFS)上从下方支承被夹具本体(130)保持的晶片且能垂直移动的垂直动销(140)。又，控制装置，一边维持通过夹具本体对晶片的保持状态以及维持垂直动销对晶片的支承状态，一边驱动夹具本体及垂直动销下降直到晶片下面接触微动载台(WFS)为止，以及解除上述保持状态及支承状态。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 曝光 元件 制造 | ||
【主权项】：
一种搬送方法，用于在经由光学系统以照明光将基板曝光的曝光装置内，搬送所述基板至保持所述基板的载台，所述搬送方法包含:于所述载台的上方，将通过第1支承构件从上方以非接触方式支承的所述基板，通过与所述第1支承构件不同且能上下移动的第2支承构件从下方支承的动作；以及使所述第2支承构件下降，并且解除所述第2支承构件对所述基板的支承，以使所述基板载置于所述载台的动作。
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