[发明专利]曝光方法、曝光裝置、及元件制造方法

摘要

曝光方法、曝光裝置、及元件制造方法。本发明提供一种搬送系统，具备保持被载置的晶片(W)且能沿既定平面移动的微动载台(WFS)、从上方以非接触方式保持晶片且能垂直地移动的夹具本体(130)、以及能在微动载台(WFS)上从下方支承被夹具本体(130)保持的晶片且能垂直移动的垂直动销(140)。又，控制装置，一边维持通过夹具本体对晶片的保持状态以及维持垂直动销对晶片的支承状态，一边驱动夹具本体及垂直动销下降直到晶片下面接触微动载台(WFS)为止，以及解除上述保持状态及支承状态。

主权项

1.一种曝光装置，用于经由光学系统以照明光将基板曝光，所述曝光装置具备：载台，其具有用于保持所述基板的保持具；搬送系统，其具有能将所述基板从其表面侧以非接触方式支承，至少可于与所述光学系统的光轴平行的铅直方向移动的第1支承构件，且其搬送所述基板至自所述光学系统分离设定的装载位置；第2支承构件，设置于所述载台，能将通过所述第1支承构件以非接触地支承的基板从其背面侧支承，且可与所述第1支承部独立地于所述铅直方向移动；驱动装置，其于配置所述载台的所述装载位置，可至少于所述铅直方向相对移动所述第1支承构件与所述第2支承构件与所述保持具；以及控制器，其控制所述搬送系统及所述驱动装置，以经由所述第1支承构件自所述搬送系统搬送所述基板至所述保持具。