[发明专利]一种石墨烯的制备方法有效
| 申请号： | 201610832594.1 | 申请日： | 2016-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN107840325B | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 盛晨航;亢澎涛 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/186 | 分类号： | C01B32/186 |
| 代理公司： | 上海隆天律师事务所 31282 | 代理人： | 臧云霄;胡洁 |
| 地址： | 201506 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种石墨烯的制备方法，与现有技术的方法相比，一方面，简化石墨烯层的图案化过程，无须对石墨烯层进行刻蚀图案化，减少对石墨烯层的损伤；另一方面，石墨烯层的转移更高效且转移质量更好，降低石墨烯转移次数与二次污染的可能性；另外，基板可以选择可重复利用的石英基板或玻璃基板等；用于沉积石墨烯层的第一金属层也可以多元化选择，并通过沉积工艺调制出适合石墨烯沉积的较佳条件。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨烯层 石墨烯 沉积 制备 第一金属层 石墨烯沉积 图案化过程 玻璃基板 二次污染 刻蚀图案 石英基板 多元化 可重复 基板 调制 损伤 | ||
【主权项】：
1.一种石墨烯的制备方法，用于将所述石墨烯层转移到一器件上，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：1)提供基板，在所述基板之上沉积一层金属氧化物层；2)在所述金属氧化物层之上沉积一层第一金属层，并且对所述第一金属层进行图案化；3)在图案化后的所述第一金属层上沉积石墨烯层；4)将所述石墨烯层与所述器件的待转移石墨烯层的界面进行对位；再采用激光打断位于所述基板与所述第一金属层之间的任意两层之间的链接，从而使得所述石墨烯层对应地转移到所述界面上；以及5)将所述石墨烯层的位于所述第一金属层一侧的部分全部去除，仅保留所述石墨烯层在所述器件上。
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