[发明专利]蚀刻剂组合物，铜基金属层的蚀刻方法，阵列基板制作方法及该方法制作的阵列基板有效
| 申请号： | 201610839181.6 | 申请日： | 2016-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN106555187B | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 权玟廷;鞠仁说;尹暎晋 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 11410 北京市中伦律师事务所 | 代理人： | 石宝忠 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本公开涉及用于金属层的蚀刻剂组合物，用于使用所述组合物蚀刻铜基金属层的方法，用于制作用于液晶显示装置的阵列基板的方法，和用于使用所述制作方法制作的用于液晶显示装置的阵列衬底，其中所述用于金属层的蚀刻剂组合物包括：(a)磷酸；(b)硝酸；(c)醋酸；(d)含氟化合物；(e)硫酸类化合物；和(f)水，其中所述(e)硫酸类化合物具有pKa值为‑1至5。 | ||
| 搜索关键词： | 硫酸类化合物 蚀刻剂组合物 液晶显示装置 金属层 制作 醋酸 蚀刻 含氟化合物 铜基金属层 阵列基板 硝酸 磷酸 衬底 | ||
【主权项】：
1.用于金属层的蚀刻剂组合物，包括：/n相对于所述蚀刻剂组合物的总重量，/n(a)10重量％至50重量％的磷酸；/n(b)3重量％至8重量％的硝酸；/n(c)10重量％至60重量％的醋酸；/n(d)0.01重量％至2.0重量％的含氟化合物；/n(e)0.01重量％至10.0重量％的硫酸类化合物；和/n(f)余量的水，/n其中，所述(e)硫酸类化合物是以下化合物中的一种或多种：/n<化学式1>/n
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