[发明专利]基板保持旋转装置、基板处理装置以及基板处理方法有效
申请号: | 201610864314.5 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN106952858B | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 蒲裕充;泷昭彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的基板保持旋转装置包括:施力单元,将各可动销的所述支撑部置于所述保持位置,驱动用磁石,与各可动销对应地安装,开放磁石,以非旋转状态设置,并形成磁场产生区域,所述磁场产生区域是随着所述旋转台的旋转而旋转的各可动销所能够通过的规定的磁场产生区域,并被设置为沿着所述旋转台的旋转方向错开且仅使与多个可动销中的一部分可动销对应的驱动用磁石能够通过,并且所述开放磁石向通过该磁场产生区域的所述可动销的驱动用磁石赋予斥力或引力,在由所述施力单元按压至所述保持位置的该可动销的所述支撑部产生反抗该按压力而指向所述开放位置的力。 | ||
搜索关键词: | 保持 旋转 装置 处理 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种基板保持旋转装置,其中,包括:旋转台,旋转驱动单元,使所述旋转台绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转,多个可动销,用于将基板支撑为水平姿势,具有以能够在远离所述旋转轴线的开放位置和靠近所述旋转轴线的保持位置之间移动的方式设置的支撑部,而且所述可动销与所述旋转台一同绕所述旋转轴线旋转,施力单元,将各可动销的所述支撑部向所述保持位置施力,驱动用磁石,与各可动销对应地安装,开放磁石,以非旋转状态设置,形成磁场产生区域,所述磁场产生区域是随着所述旋转台的旋转而旋转的各可动销所能够通过的规定的磁场产生区域,所述磁场产生区域被设置为相对所述旋转台的旋转方向偏离且仅使与多个可动销中的一部分可动销对应的驱动用磁石能够通过,所述开放磁石向通过该磁场产生区域的所述可动销的驱动用磁石赋予斥力或引力,在被所述施力单元向所述保持位置受力的该可动销的所述支撑部产生克服该施力的指向所述开放位置的力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社斯库林集团,未经株式会社斯库林集团许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610864314.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造