[发明专利]一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法有效
| 申请号： | 201610871554.8 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107881475B | 公开（公告）日： | 2019-11-01 |
| 发明（设计）人： | 马胜灿;刘凯;张林;钟震晨;钟明龙;江庆政 | 申请（专利权）人： | 江西理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14 |
| 代理公司： | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人： | 李振瑞 |
| 地址： | 341000 江西省赣州*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni‑Co‑Mn‑Ti合金薄膜的方法，其步骤为：(一)选取靶材：按化学计量比选取NiMnTi合金靶和Co单质靶；(二)共溅射：1.基底加热：将选好的合金靶和单质靶放在溅射室的溅射靶之上固定好，关闭腔盖抽真空到10‑4Pa以下后加热基底，打开基底加热电源，调整加热旋钮到合适位置开始加热；2.溅射室压强调整：充入纯度为99.999％的氩气，通过调整流量仪和闸板阀控制溅射室内压强到合适大小；3.直流共溅射：调整溅射靶的功率旋钮到合适范围开始共溅射，溅射一定时间后停止溅射。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 磁控溅射 直流 溅射 制备 ni co mn ti 合金 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过磁控溅射共溅射制备Ni‑Co‑Mn‑Ti合金薄膜的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：(一)选取靶材：按化学计量比选取NiMnTi合金靶材和Co单质靶材进行共溅射，靶材的直径都是60mm，其中合金靶材的厚度为3mm，Co单质靶材的厚度为1～2mm；(二)基底加热：将选好的合金靶材和Co单质靶材放在溅射室的溅射靶之上固定好，关闭腔盖抽真空到10‑4Pa以下，加热基底，加热温度为200℃～700℃；(三)溅射室压强调整：充入氩气，通过调整流量仪和闸板阀控制溅射室内压强范围为0.25Pa～2.5Pa；(四)直流共溅射：合金靶的溅射功率为30W～70W，单质靶溅射功率为5W～30W，溅射时间0.5h～2.5h。
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