[发明专利]光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法在审

专利信息
申请号: 201610875826.1 申请日: 2016-09-30
公开(公告)号: CN107153902A 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 金种佑;朴真用;李太圭 申请(专利权)人: 东友精细化工有限公司
主分类号: G06Q10/06 分类号: G06Q10/06;G06K17/00;G01N21/88
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 黄志华,李欣
地址: 韩国全*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法。所述装置包括缺陷信息收集部,其收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息;缺陷信息匹配部,其使一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配;缺陷检测判断部,其基于匹配的结果,以二次工序的缺陷信息为基准,将一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测;缺陷信息修正部,其在检测到相同缺陷的情况下,算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差,并基于算出的位置之差来修正一次工序的缺陷信息;及缺陷信息汇总部,其对修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总。
搜索关键词: 光学薄膜 缺陷 信息 综合 管理 装置 及其 方法
【主权项】:
一种光学薄膜的缺陷信息综合管理装置,其特征在于,包括:缺陷信息收集部,其收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息;缺陷信息匹配部,其使一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配;缺陷检测判断部,其基于匹配的结果,以二次工序的缺陷信息为基准,将一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测;缺陷信息修正部,其在检测到相同缺陷的情况下,算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差,并基于算出的位置之差来修正一次工序的缺陷信息;及缺陷信息汇总部,其对修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总。
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