[发明专利]制备供微结构诊断的样本的方法和供微结构诊断的样本

摘要

在一种用于制备供微结构诊断的样本的方法中，通过材料烧蚀处理在样本主体上制备样本部分（PA）。随后在样本部分上产生检查区域，所述检查区域包括待检查的目标区域（ZB）。方法包含以下步骤在样本部分的至少一个表面上产生包括目标区域的阶台结构区（TBZ），其中，出于产生阶台结构区的目的，通过材料烧蚀射束处理在目标区域近旁产生至少一个凹口（K），所述凹口带有相对于表面倾斜地延伸的侧翼（F1、F2）；以及借助于离子束（IB）在阶台结构区（TBZ）的区域中烧蚀样本部分（PA）的材料，所述离子束倾斜于凹口（K）的广度方向在掠入射下辐射到表面上，使得目标区域（ZB）沿离子束（IB）的入射辐射方向位于所述凹口后方。

主权项

一种用于制备用于微结构诊断的样本（P）的方法，其中，通过材料烧蚀处理在样本主体上制备样本部分（PA），且随后在所述样本部分上产生检查区域，所述检查区域包括待检查的目标区域（ZB），所述方法包括以下步骤：在所述样本部分的至少一个表面（OB、OB1、OB2）上产生包括所述目标区域的阶台结构区（TBZ），其中，出于产生所述阶台结构区的目的，通过材料烧蚀射束处理在所述目标区域近旁产生至少一个凹口（K、K1、K2、K3），所述凹口带有相对于所述表面倾斜地延伸的侧翼（F1、F2）；以及借助于离子束（IB）在所述阶台结构区（TBZ）的区域中从所述样本部分（PA）的表面烧蚀材料，所述离子束倾斜于所述凹口（K、K1、K2、K3）的广度方向在掠入射下辐射到所述表面上，使得所述目标区域（ZB）沿所述离子束（IB）的入射辐射方向位于所述凹口后方，且由于在所述凹口后方的区域中的阶台结构，借由离子束处理使所述表面实质上平行于所述表面的原始高度凹入。