[发明专利]一种大视场曝光系统有效
| 申请号： | 201610876749.1 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107885041B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 孙晶露;郭银章 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种大视场曝光系统，包括沿光路依次设置的光源、照明模块、掩模台、投影物镜模块和工件台，所述投影物镜模块由若干子投影物镜单元沿非扫描方向拼接而成，每个所述子投影物镜单元包括平板、楔板和透镜，所述平板、楔板和透镜由负折射率材料或在曝光波段折射率为负的材料制成。通过若干子投影物镜单元沿非扫描方向拼接形成投影物镜模块，从而在非扫描方向上拼接成连续大视场，每个子投影物镜单元包括由负折射率材料或在曝光波段折射率为负的材料制成的平板、楔板和透镜排列而成，通过平板、楔板和透镜的运动可以实现对子投影物镜单元焦面、位置、倍率的调整来补偿掩膜和基板加工误差和形变对成像的影响，保证了大视场的成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 视场 曝光 系统 | ||
【主权项】：
1.一种大视场曝光系统，其特征在于，包括沿光路依次设置的光源、照明模块、掩模台、投影物镜模块和工件台，所述投影物镜模块由若干子投影物镜单元沿非扫描方向拼接而成，每个所述子投影物镜单元包括平板、楔板和透镜，所述平板、楔板和透镜由负折射率材料或在曝光波段折射率为负的材料制成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610876749.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：有机发光显示装置
- 下一篇：显示面板及其制作方法、显示装置
