[发明专利]一种光学测量装置和方法有效
| 申请号： | 201610876758.0 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107883887B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 杨志勇;徐兵;李煜芝;周畅 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/16 | 分类号： | G01B11/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 屈蘅;李时云<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光学测量装置和方法，设置了可以测量光学检测载台框架变形量的框架测量单元、以及根据光学检测载台框架变形量对基板载台位置和/或光学检测单元位置进行校正的校正模块，用于解决框架变形对标记位置测量造成的误差问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学测量装置，其特征在于，包括/n一基板载台，用于放置基板，所述基板载台位于一XYZ三维坐标系，其中Z方向垂直于所述基板载台的承载面；/n一光学检测载台框架，从所述基板载台一侧延伸至相对的一侧，所述光学检测载台框架上承载有一光学检测滑块，可沿所述光学检测载台框架在X方向滑动；/n框架测量单元，用于检测所述光学检测载台框架的变形量，所述框架测量单元包括两个沿所述X方向设置的第一干涉仪测量组件，所述第一干涉仪测量组件用于测量所述光学检测载台框架在Y方向的变形量Yref和绕Z轴的旋转变形量Rzref；/n一光学检测单元，固定在所述光学检测滑块上，随着所述光学检测滑块沿所述光学检测载台框架移动；/n一基板载台位置测量模块，用于测量所述基板载台的位置，所述基板载台位置测量模块包括两个与所述第一干涉仪测量组件布置在同一水平面的第二干涉仪测量组件，所述第二干涉仪测量组件包括基板载台X干涉仪控制测量系统和基板载台Y干涉仪控制测量系统，所述基板载台X干涉仪控制测量系统用于控制所述基板载台在所述X方向上的运动并测量所述基板载台在所述X方向的位置X_ws和在XZ平面上的旋转量Rzx_ws，所述基板载台Y干涉仪控制测量系统用于控制所述基板载台在Y方向的运动并测量所述基板载台在YZ平面的旋转量Rzy_ws和相对于X轴的倾斜量Rx_ws；/n一光学检测位置测量模块，用于测量所述光学检测单元的位置；/n根据所述框架测量单元测量得到的所述光学检测载台框架的变形量并利用所述基板载台X干涉仪控制测量系统和基板载台Y干涉仪控制测量系统对所述基板载台的位置和/或所述光学检测单元的位置进行校正的校正模块。/n
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