[发明专利]向有机发光二极管沉积钝化层的直列式原子层沉积设备在审
申请号: | 201610924720.6 | 申请日: | 2016-10-24 |
公开(公告)号: | CN107916413A | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | 朴根鲁 | 申请(专利权)人: | 奈恩泰克有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 王丽军 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种向OLED基板沉积钝化层的直列式原子层沉积设备,其中当OLED基板在相互平行地设置着多个线源的真空室中以直线方式水平移动时,执行沉积过程,以允许无极薄膜作为钝化层被沉积在速度大于3nm/min的每个OLED基板上。直列式原子层沉积设备包括适于在其中形成真空状态的真空室;水平方向上的基板移动件,其被设置在真空室的下侧用于将OLED基板从真空室的一侧水平移动到真空室的另一侧;原子层沉积件,其设置在真空室的上侧,用于借助于原子层沉积向正在被基板移动件水平移动的OLED基板沉积钝化层。 | ||
搜索关键词: | 有机 发光二极管 沉积 钝化 直列式 原子 设备 | ||
【主权项】:
一种向OLED基板沉积钝化层的直列式原子层沉积设备,所述设备包括:适于在其中形成真空状态的真空室;水平方向上的基板移动件,其被设置在真空室的下侧用于将OLED基板从真空室的一侧水平移动到真空室的另一侧;和原子层沉积件,其设置在真空室的上侧,用于借助于原子层沉积向正在被基板移动件水平移动的OLED基板沉积钝化层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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