[发明专利]用以产生多重样式化光刻兼容集成电路布局的方法在审
| 申请号： | 201610925461.9 | 申请日： | 2016-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN107665267A | 公开（公告）日： | 2018-02-06 |
| 发明（设计）人： | 陈俊臣;陈胜雄;张丰愿;王绍桓 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 马雯雯,臧建明 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种由计算机实施的用以产生多重样式化光刻兼容集成电路布局的方法。多个集成电路单元经整合，以形成集成电路布局。所述集成电路布局包括彼此紧邻的至少两个集成电路单元。在整合所述集成电路单元之后，执行分解算法，以将多重颜色分配至所述集成电路布局里的设计图形。在将所述颜色分配至所述设计图形之后，检测所述集成电路布局中的多重样式化着色冲突。执行修正算法，在所述修正算法下，通过翻转或移动所述紧邻集成电路单元中的至少一者而修正存在两紧邻集成电路单元中的冲突。 | ||
| 搜索关键词： | 用以 产生 多重 样式 光刻 兼容 集成电路 布局 方法 | ||
【主权项】：
一种用以产生多重样式化光刻兼容集成电路布局的方法，其由计算机实施，所述方法包括：使用处理系统，整合多个集成电路单元，以形成集成电路布局，所述集成电路布局包括彼此紧邻的至少两个集成电路单元；在整合所述集成电路单元之后，使用所述处理系统，以执行分解算法，以将多重颜色分配至所述集成电路布局里的设计图形；在将所述颜色分配至所述设计图形之后，使用所述处理系统检测所述集成电路布局中的多重样式化着色冲突；以及使用所述处理系统执行修正算法，在所述修正算法下，通过翻转或移动所述紧邻集成电路单元中的至少一者而修正存在两紧邻集成电路单元中的冲突。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610925461.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型脱水仓结构
- 下一篇：一种高效率的用于水利工程的过滤器
