[发明专利]一种基片对准装置及对准方法有效
| 申请号： | 201610926006.0 | 申请日： | 2016-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN107976875B | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 霍志军;朱鸷;赵滨;高玉英 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基片对准装置及对准方法，该装置包括：承载第一基片的第一运动台；承载第二基片的第二运动台；光路运动机构，位于第一基片和第二基片之间，沿水平运动；光路成像系统，设于光路运动机构上；光路偏移测量装置，固设于光路运动机构上；控制器，与第一运动台、光路成像系统和光路偏移测量装置连接，控制第一运动台运动进行调整。光路成像系统在光路运动机构的带动下，对第一、第二基片上的标记位置进行检测，通过光路偏移测量装置测量光路运动机构在运动过程中产生的偏差，通过垂向偏移测量装置测量垂向运动台在垂向运动中引起的水平向偏差，控制器根据测量的偏差控制第一运动台运动进行补偿校正，提高基片的对准精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种基片对准装置，其特征在于，包括：承载第一基片的第一运动台；承载第二基片的第二运动台；光路运动机构，位于所述第一基片和所述第二基片之间，沿水平运动；光路成像系统，设于所述光路运动机构上，对第一、第二基片上的标记位置进行检测；光路偏移测量装置，固设于所述光路运动机构上，测量光路运动机构在运动过程中产生的偏差；控制器，与所述第一运动台、光路成像系统和光路偏移测量装置连接，根据光路成像系统测得的标记位置以及光路偏移测量装置检测到的数据控制第一运动台运动进行调整。
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