[发明专利]用于处理基板的装置和方法在审

专利信息
申请号: 201610932597.2 申请日: 2016-10-25
公开(公告)号: CN106971960A 公开(公告)日: 2017-07-21
发明(设计)人: 李银卓;徐钟锡 申请(专利权)人: 细美事有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 北京市中伦律师事务所11410 代理人: 石宝忠
地址: 韩国忠*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了用于处理基板的装置和方法。所述装置可以包括处理腔室,所述处理腔室包括彼此联接以限定处理空间的上腔室和下腔室;支撑单元,所述支撑单元被设置在所述处理空间内以支撑基板;以及排气元件,所述排气元件被配置成从所述处理空间或所述处理空间的相邻区域排出空气。所述排气元件可以包括与外排气孔连接的外排气管线,以及所述外排气孔可以形成在所述上腔室或所述下腔室中或穿过所述上腔室或所述下腔室形成且可以与所述上腔室和所述下腔室彼此接触的位置处的接触表面连接。
搜索关键词: 用于 处理 装置 方法
【主权项】:
一种基板处理装置,包括:处理腔室,所述处理腔室包括彼此联接以限定处理空间的上腔室和下腔室;支撑单元,所述支撑单元被设置在所述处理空间内以支撑基板;以及排气元件,所述排气元件被配置成从所述处理空间或所述处理空间的相邻区域排出空气,其中,所述排气元件包括与外排气孔连接的外排气管线,以及所述外排气孔形成在所述上腔室或所述下腔室中且与所述上腔室和所述下腔室彼此接触的位置处的接触表面连接。
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