[发明专利]一种背面对准的方法有效
申请号: | 201610934140.5 | 申请日: | 2016-10-31 |
公开(公告)号: | CN108008608B | 公开(公告)日: | 2019-11-22 |
发明(设计)人: | 王健;张俊 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 屈蘅;李时云<国际申请>=<国际公布>= |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种背面对准的方法,包括如下步骤:在晶圆上分别建立晶圆坐标系和晶圆几何坐标系,晶圆正面上片,根据正面标记执行第一次对准,计算得到晶圆坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系;执行第二次对准,计算得到晶圆正面的晶圆几何坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系,进而得到晶圆坐标系相对于晶圆几何坐标系的相对位置关系,晶圆背面上片;执行第三次对准,计算得到晶圆背面的晶圆几何坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系,根据所述晶圆坐标系相对于晶圆几何坐标系的相对位置关系,计算得到晶圆背面,晶圆坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系。 | ||
搜索关键词: | 一种 背面 对准 方法 | ||
【主权项】:
1.一种背面对准的方法,其特征在于,包括如下步骤:/n步骤一:在晶圆正面设置至少两个对准标记,根据该两个对准标记的名义位置,建立晶圆坐标系;同时,在晶圆的边缘位置设置至少两个穿透型标记,根据该两个穿透型标记的名义位置,建立晶圆几何坐标系;/n步骤二:晶圆正面上片到工件台,采用对准系统,执行第一次对准,计算得到晶圆正面的晶圆坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系,执行第二次对准,计算得到晶圆正面的晶圆几何坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系,进而得到晶圆坐标系相对于晶圆几何坐标系的相对位置关系;/n步骤三:晶圆背面上片到工件台,采用对准系统执行第三次对准,计算得到晶圆背面的晶圆几何坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系;/n步骤四:根据所述晶圆坐标系相对于晶圆几何坐标系的相对位置关系,计算得到晶圆背面的晶圆坐标系相对于工件台零位坐标系的相对位置关系。/n
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