[发明专利]光刻机水平向测量装置及方法有效
| 申请号： | 201610934216.4 | 申请日： | 2016-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN108020995B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 杨玉杰 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/16 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机水平向测量装置及方法，该装置包括整机框架、设于所述整机框架上的投影物镜单元、物镜倾角测量单元和物镜倾角补偿单元，所述物镜倾角测量单元包括与所述投影物镜单元镜筒上方位对应的第一位置测量单元、与所述投影物镜单元镜筒下方位对应的第二位置测量单元以及位于所述投影物镜单元一侧的主支架。通过与投影物镜单元镜筒上方位对应的第一位置测量单元和与投影物镜单元镜筒下方位对应的第二位置测量单元测量投影物镜单元相对主支架的倾角，物镜倾角补偿单元根据所述倾角计算工件台和掩模台之间的偏移量，移动掩模台和工件台进行补偿，从而解决了光刻机框架变形和热变形的影响导致套刻精度降低和CDU性能差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 水平 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机水平向测量装置，其特征在于，包括整机框架、设于所述整机框架上的投影物镜单元、物镜倾角测量单元和物镜倾角补偿单元，所述物镜倾角测量单元包括与所述投影物镜单元镜筒上方位对应的第一位置测量单元、与所述投影物镜单元镜筒下方位对应的第二位置测量单元以及位于所述投影物镜单元一侧的主支架。
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