[发明专利]反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理有效
| 申请号： | 201610939647.X | 申请日： | 2016-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN106962471B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | K.M.基纳;M.A.霍克沃尔特 | 申请（专利权）人： | 纳诺嘉德技术有限责任公司 |
| 主分类号： | A23B9/06 | 分类号： | A23B9/06;A23B4/015;A23L3/32;A61L2/14;A61L9/22;H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉;肖靖泉 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理。一种用反应性气体处理产品或表面的方法，其包括：通过由工作气体形成高电压冷等离子体(HVCP)而产生反应性气体；输送所述反应性气体远离HVCP至少5cm；随后，使所述产品或表面与所述反应性气体接触。所述HVCP不与所述产品或表面接触。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 性气 产生 系统 使用 产品 处理 | ||
【主权项】：
用反应性气体处理产品的方法，包括：通过由工作气体形成高电压冷等离子体(HVCP)而产生反应性气体；输送所述反应性气体远离所述HVCP至少5cm；随后使所述产品与所述反应性气体接触；其中所述HVCP不与所述产品接触。
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