[发明专利]光罩检测装置及其方法有效
申请号: | 201610945512.4 | 申请日: | 2016-11-02 |
公开(公告)号: | CN107024832B | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 黄彦铭 | 申请(专利权)人: | 艾斯迈科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 朱成之;苗绘 |
地址: | 中国台湾新北*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种光罩检测装置及其方法。光罩检测装置包含检测基座、移动平台、转动平台、承载平台、激光测距模块、垂直位移模块、处理模块及影像采集模块。检测基座的一面上设有支架。移动平台设于检测基座的一面上。转动平台设于移动平台之上。承载平台设于转动平台的一面上。激光测距模块设于支架的一侧。垂直位移模块设于支架的一侧。处理模块控制垂直位移模块升降。影像采集模块设置于垂直位移模块上。当影像采集模块采集检测影像后,移动平台将下一个防尘膜的检测区域移至对应激光测距模块及影像采集模块的位置,以产生下一个检测区域的测距信号及检测影像,处理模块依据多个测距信号产生防尘膜高度信息,且依据各检测影像产生检测信息。 | ||
搜索关键词: | 检测 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种光罩检测装置,其特征在于,包含:检测基座,其一面上设有支架;移动平台,其设于所述检测基座的一面上,且位于所述检测基座及所述支架之间,所述移动平台沿所述检测基座作第一方向位移;转动平台,其设于所述移动平台上,且沿所述移动平台作与所述第一方向垂直的第二方向位移;承载平台,其设于所述转动平台的一面上,所述承载平台承载光罩,所述光罩包含基板、框架及防尘膜,所述框架设于所述基板的一面上,所述防尘膜设于所述框架上;激光测距模块,其设于所述支架的一侧,所述激光测距模块对应所述防尘膜的其中一个检测区域产生测距信号;垂直位移模块,其设于所述支架的一侧;处理模块,其根据所述测距信号控制所述垂直位移模块升降;以及影像采集模块,其相邻所述激光测距模块并设置于所述垂直位移模块上,且于所述垂直位移模块升降后,采集由所述激光测距模块所测量的所述检测区域的检测影像;其中,当所述影像采集模块采集其中一个所述检测区域的所述检测影像后,所述移动平台将下一个所述检测区域移至对应所述激光测距模块及所述影像采集模块的位置,以产生下一个所述检测区域的所述测距信号及所述检测影像,所述处理模块根据多个所述测距信号产生防尘膜高度信息,且根据各所述检测影像产生检测信息。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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