[发明专利]一种等离子刻蚀机水平度的自动调节装置及方法有效
| 申请号： | 201610945576.4 | 申请日： | 2016-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN108022820B | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 刘季霖;连增迪;吴狄 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02;H01J37/305 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 朱成之 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子刻蚀机水平度的自动调节装置，包含：倾角传感器，固定安装在等离子刻蚀机上，且与等离子刻蚀机中承载基片的静电吸盘平行设置，用于检测等离子刻蚀机的倾斜角度与倾斜方向；多个调节组件，分别连接设置在等离子刻蚀机的底部下方；控制器，分别与倾角传感器以及各个调节组件连接，根据接收到的离子刻蚀机的倾斜角度与倾斜方向，控制各个调节组件对应进行升高或降低操作，以调节等离子刻蚀机处于水平状态。本发明通过倾角传感器实时监控等离子刻蚀机的水平度，在不需要打开刻蚀机腔体的情况下，自动完成精度高于0.1度的水平度调节，保证基片刻蚀的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 水平 自动 调节 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子刻蚀机水平度的自动调节装置，其中，所述的等离子刻蚀机包含：刻蚀机腔体，由位于顶端的顶盖，位于底端的底壁，以及连接在顶盖和底壁之间的侧壁构成；静电吸盘，设置在刻蚀机腔体内的底壁上方，与刻蚀机腔体之间平行设置，承载及吸持基片；其特征在于，所述的自动调节装置包含：倾角传感器，固定安装在等离子刻蚀机上，且与承载基片的静电吸盘平行设置，用于检测等离子刻蚀机的倾斜角度与倾斜方向；多个调节组件，分别连接设置在等离子刻蚀机的底部下方；控制器，分别与倾角传感器以及各个调节组件连接，根据接收到的离子刻蚀机的倾斜角度与倾斜方向，控制各个调节组件对应进行升高或降低操作，调节等离子刻蚀机处于水平状态。
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