[发明专利]化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案化方法有效
申请号: | 201610948118.6 | 申请日: | 2016-10-27 |
公开(公告)号: | CN106610566B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 平野祯典;柳泽秀好 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 杜丽利 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了化学增幅型正型抗蚀剂组合物,其包括在有机溶剂中的适应于在酸的作用下变成可溶于碱性水溶液中的特定的碱溶性聚合物作为基础树脂,碱溶性聚合物和光致产酸剂。所述组合物形成抗蚀剂膜,所述抗蚀剂膜可以短时间显影从而以高感光度形成图案而不在图案侧壁中产生凹坑。 | ||
搜索关键词: | 化学 增幅 型正型抗蚀剂 组合 图案 方法 | ||
【主权项】:
化学增幅型正型抗蚀剂组合物,其包括(A)适应于在酸的作用下变成可溶于碱性水溶液中的聚合物,其包括具有通式(1)的重复单元并具有1,000至500,000的重均分子量,其中,R14为氢、羟基、直链烷基、支链烷基、卤素、或三氟甲基,R15为氢、羟基、卤素或三氟甲基,R16为C4‑C12叔烷基,R17为氢、任选被取代的烷基、任选被取代的烷氧基、‑C(CF3)2‑OH、其中每个烷基结构部分具有1至6个碳原子的三烷基甲硅烷基、C4‑C20氧代烷氧基、四氢吡喃基氧基、四氢呋喃基氧基或三烷基甲硅烷基,R18为氢或甲基,R19为氢、甲基、烷氧基羰基、氰基、卤素、或三氟甲基,R20为C4‑C30取代或未取代的、直链或支链的烷基或者取代或未取代的环烷基,u为0或1至4的整数,t为0或1至5的整数,p、r和s各自为0或正数,q为正数,p+q+r+s=1,(B)包含羟基和/或羧基并具有1,000至100,000的重均分子量的碱溶性聚合物,所述聚合物可溶于碱性水溶液并具有在2.38重量%的四甲基氢氧化铵水溶液中的400至的碱性溶解速率,(C)光致产酸剂,和(D)有机溶剂。
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