[发明专利]自聚焦微透镜阵列的制作系统及制作方法

摘要

本发明公开了自聚焦微透镜阵列的制作系统及制作方法，包括如下步骤1)薄膜微型光学谐振腔的制备，在衬底上生长第一层金属薄膜，接着在第一层金属薄膜上生长一层半导体薄膜，最后在半导体薄膜上生长第二层金属薄膜，半导体薄膜与第一层金属薄膜和第二层金属薄膜的界面处形成肖特基结；2)光照形成自聚焦微透镜阵列，把制备的薄膜微型光学谐振腔放置于激光光路中，激光经滤波、准直后，垂直聚焦在薄膜型光学谐振腔的表面，光从衬底一侧进入，从第二层金属薄膜一侧透出，照射设定时间后，得到自聚焦微透镜阵列。本发明构造精巧、制备简单、不产生任何污染排放、不浪费材料、成品率高。透镜的口径由照射光束横截面尺寸决定。

主权项

一种自聚焦微透镜制作系统，其特征在于：包括依次排列的激光光源、半波片、滤波器、凸透镜、衰减器以及薄膜微型光学谐振腔，其中，所述薄膜微型光学谐振腔包括第一层金属薄膜、半导体薄膜和第二层金属薄膜，半导体薄膜位于第一层金属薄膜和第二层金属薄膜之间，使半导体薄膜与两层金属薄膜之间的界面处形成肖特基结；激光光源发射的激光依次通过半波片、滤波器、凸透镜、衰减器垂直照射于所述第一层金属薄膜的表面；激光光源与薄膜微型光学谐振腔满足以下关系：2nd=mλ，其中，d为半导体薄膜的厚度，n为半导体薄膜的折射率，λ为入射激光的波长，m为正整数。