[发明专利]一种低反射高透光型光学组合薄膜在审
申请号: | 201610962338.4 | 申请日: | 2016-11-04 |
公开(公告)号: | CN107870477A | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 任国伟 | 申请(专利权)人: | 江苏日久光电股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357 |
代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)31297 | 代理人: | 周高 |
地址: | 215325 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及光学领域,公开了一种低反射高透光型光学组合薄膜,包括自上而下依次设置的第一高阻隔膜层,量子点层和第二高阻隔膜层,其中第一高阻隔膜层用于同背光源相对,第二高阻隔膜层用于同外界环境光源相对;所述第一高阻隔膜层向着背光源的一面设置有第一 AR 涂层,而第二高阻隔膜层向着外界环境光源的一面设置有第二 AR 涂层。所述第一 AR 涂层和所述第二 AR 涂层上有多个微型凹陷点。相对于现有技术而言,本发明通过使用添加纳米氧化硅的纳米氧化锆的涂料形成颗粒之间的缝隙有更好的致密度涂层,而且在喷涂完成后,再由氢氟酸将涂成表面的氧化硅腐蚀掉,形成微型凹陷点,从而解决了膜表面的反光较高的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 反射 透光 光学 组合 薄膜 | ||
【主权项】:
一种高透光型光学组合薄膜,包括自上而下依次设置的第一高阻隔膜层,量子点层和第二高阻隔膜层,其中第一高阻隔膜层用于同背光源相对,第二高阻隔膜层用于同外界环境光源相对; 所述第一高阻隔膜层向着背光源的一面设置有第一AR涂层,而第二高阻隔膜层向着外界环境光源的一面设置有第二AR涂层,其特征在于 :所述第一AR涂层和所述第二AR涂层上有多个微型凹陷点;所述微型凹陷点的制作方法为:步骤1:使用含有纳米氧化锆和纳米氧化硅的涂料喷涂制作所述AR涂层;步骤2:在喷涂完成后的所述AR涂层干燥;步骤3:将干燥后的带有所述AR涂层的组合膜放置在氢氟酸气体中的环境中,通过氢氟酸与所述AR涂层表面的氧化硅反应出现微型凹陷点;步骤4:清洗干燥完成工作。
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