[发明专利]湿式制程装置有效
申请号: | 201610966533.4 | 申请日: | 2016-10-28 |
公开(公告)号: | CN108022864B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 黄荣龙;吕峻杰;陈滢如 | 申请(专利权)人: | 盟立自动化股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种湿式制程装置。本发明藉由在一主液体移除单元旁设置一副液体移除单元,并在所述副液体移除单元与所述主液体移除单元之间形成一第二风口,产生一伯努利现象,进而藉由所述第二风口带走靠近一容器侧壁的液体,避免液体的累积。 | ||
搜索关键词: | 湿式制程 装置 | ||
【主权项】:
1.一种湿式制程装置,其特征在于,包括:一第一容器,包括一第一侧壁的一开口,用于让一基板沿着所述第一容器的第一轴从所述开口离开或进入所述第一容器;一主液体移除单元,设置在所述第一容器内部靠近所述第一侧壁与所述开口之区域,并且所述主液体移除单元包括第一风口;一气体提供单元,提供一气体至所述主液体移除单元,以由所述第一风口流向所述基板;以及一副液体移除单元,邻接于所述主液体移除单元,并且远离所述开口,所述副液体移除单元与所述主液体移除单元之间形成一第二风口,所述副液体移除单元包括连接至所述第一侧壁的一导板;其中,所述主液体移除单元、所述第一侧壁、所述导板以及所述副液体移除单元之间的物质依序经过所述导板、所述副液体移除单元往所述第二风口移动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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