[发明专利]一种自动曝光控制方法和装置以及自动曝光系统

摘要

本发明实施例公开了一种自动曝光控制方法，应用于X线机，该方法包括：将初始管电压和初始管电流发送给高压发生器，以使高压发生器根据初始管电压和初始管电流发射X射线，开始曝光；检测电离室生成的反馈电压，得到第一比较电压；当第一比较电压大于或等于采样电压时，获得参考电压；继续检测电离室生成的反馈电压，得到第二比较电压；当第二比较电压大于或等于参考电压时，切断高压发生器，停止曝光。这样，以实际曝光过程为依据来设置参考电压，可使得参考电压设置的更加合理，能够保证自动曝光控制的准确，得到理想灰度的曝光图像，保证曝光图像质量的稳定可靠，避免了现有技术中靠经验设定参考电压是存在的曝光不足或曝光过量的情况。

主权项

1.一种自动曝光控制方法，其特征在于，应用于X线机，所述X线机，包括：高压发生器、探测器和电离室；其中，所述高压发生器发射的X射线经被照目标到达所述探测器，所述探测器根据到达的X射线成像，所述电离室根据到达所述探测器的X射线剂量生成反馈电压；所述方法，包括：将初始管电压和初始管电流发送给所述高压发生器，以使所述高压发生器根据所述初始管电压和所述初始管电流发射X射线，开始曝光；检测所述电离室生成的反馈电压，得到第一比较电压；当所述第一比较电压大于或等于采样电压时，获得参考电压，所述参考电压大于所述采样电压；继续检测所述电离室生成的反馈电压，得到第二比较电压；当所述第二比较电压大于或等于所述参考电压时，切断所述高压发生器，停止曝光。